高纯铜脉冲电解参数的研究.pdf

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1 0 有色金属 冶炼部分 2 0 0 6 年5 期 高纯铜脉冲电解参数的研究 陈少华1 ,鲁道荣2 1 .安徽建筑工业学院材料科学与工程系,安徽合肥2 3 0 0 2 2 ; 2 .合肥工业大学化工学院,安徽合肥2 3 0 0 0 9 摘要在小型电解槽中进行试验,得出了合适的脉冲电解参数,并用X R D ,S E M 研究了铜结晶的微观结 构。 关键词铜;脉冲电解;脉冲参数;微观结构 中图分类号T F 8 1 1 文献标识码A 文章编号1 0 0 7 7 5 4 5 2 0 0 6 0 5 0 0 1 0 0 3 S t u d yo nP u l s eP a r a m e t e r so fC o p p e rP u l s eE l e c t r o l y s i s C H E NS h a o h u a .L UD a o r o n g . S e h o o lo fC h e m i c a lE n g i n e e r i n g ,H e f e iU n i v e r s i t yo fT e c h n o l o g y ,H e f e i ,A n h u i2 3 0 0 0 9 ,C h i n a A b s t r a c t T h ee x p e r i m e n t sh a v eb e e nd o n eb yp u l s ee l e c t r i c a ls o u r c ei nt h es m a l le l e c t r o l y s i sc e l la n dt h e .s u i t a b l e p u l s ep a r a m e t e rh a sb e e nc o n f i r m e d .A tt h es a m et i m et h es a m p l e sa r et e s t e db yS E Ma n dX R Dt os t u d yt h em i c r o s t r u c t u r eo fc o p p e rc r y s t a l . K e y w o r d s C o p p e r ;P u l s ee l e c t r o l y s i s ;P u l s ep a r a m e t e r ;M i c r o s t r u c t u r e 铜是一种重要的有色金属,它具有优良的导电 性、导热性、延展性及抗蚀性,在电气、机械、冶金、化 工、轻工等各行业得到广泛的应用。由火法精炼生 产的铜,纯度达9 9 .5 %,但其导电性及延展性不能 满足电气工业的要求。为此,尚需采用电解精炼法, 进一步去除杂质,使其纯度达到9 9 .9 5 %以上⋯1 。 传统电解铜工业采用直流电解精炼,电流密度在 3 0 0A /m 2 以下,难以在高电流密度下制得合格的电 解铜。国外曾研究过用超声波法,周期反向电流法、 脉冲电流法[ 2 叫] 来提高铜沉积的电流密度,脉冲电 流法是其中较好的一种方法,因此对脉冲电解法进 行研究是有实际意义的[ 5 “] 。本文在试验室的小 型电解槽中对脉冲电解精炼铜相关脉冲参数进行了 系统的研究,从而确定了电流密度、占空比、脉冲宽 度等重要参数,同时还用X R D 和S E M 研究了脉冲 电解铜的相关的微观结构。 作者简介陈少华 1 9 7 1 一 ,男,讲师 1试验 1 .1 电极制备 电解槽的阴极为7 .1X7 .1c m 的纯铜片 含铜 9 9 .9 % ,阳极为两块1 1 1 1c m 2 的国内某电解铜 厂的阳极残铜。阴阳极在电解前用不同型号的砂纸 磨光,并在丙酮和稀硫酸溶液中分别浸泡,以除去电 极表面的油渍和氧化物。 1 .2 电解液组成 电解液用新制的蒸馏水配制,C u S 0 4 5 H 2 01 6 0 g /L ,H 2 S 0 41 4 0g /L ,试验所用的试剂均为分析纯。 1 .3 试验仪器 H Y L A 型脉冲电源,超级恒温槽,电解槽, D /m a x r B 型X 射线衍射仪 X R D ,X 一6 5 0 型扫 描电镜 S E M 。 万方数据 有色金属 冶炼部分 2 0 0 6 年5 期 2 试验结果和讨论 2 .1 脉冲电解电流密度的选择 电流密度是铜电解精炼的关键参数,直接影响 电解铜的质量和生产能力,直流电解的电流密度一 般在2 5 0A /m 2 左右[ 7 | ,生产能力难以提高,脉冲电 解可实现高电流密度下铜的电解精炼。试验时,为 选择合适的电流密度,电解液中没有加入杂质,只有 阳极铜溶解进入电解液中的少量杂质,试验温度 3 0 ℃,占空比1 1 ,脉冲宽度t o n 1 0m s ,电解时间4 h ,根据阴极铜沉积表面的状况来确定合适的电流密 度。结果表明平均电流密度3 0 0 ~4 5 0A /m 2 时, 阴极铜表面沉积光滑、致密;5 0 0 ~6 5 0A /m 2 时,阴 极铜表面沉积光滑;平均电流密度若超过6 5 0A / m 2 ,将得不到较好的铜沉积层,表面有粒状结晶。 为了研究高电流密度电解精炼,我们选择平均电流 密度为6 5 0 A /m z ,在此条件下对脉冲电解的占空比 进行研究。 2 .2 占空比的选择 占空比 t “t o f f 是脉冲电解的一个重要参数, 对电解铜的质量有很大影响,因为在t 。。时间里阴极 附近金属离子不断消耗,使得电极附近金属离子浓 度小于溶液本体中的金属离子浓度,产生浓差极化, 在t 。f f 时间里溶液本体中金属离子由于扩散和对流 传质使得电极附近金属离子得到补充。因此选择一 个合适的占空比在脉冲电解铜生产中十分关键。试 验选定电流密度6 5 0A /m 2 ,电解时间8h ,观察不同 的占空比对阴极铜表面沉积的影响。结果表明占 空比为1 1 时,表面较好,但有少许枝晶;占空比1 2 时,表面致密,有少数粒状结晶;占空比为1 3 的 表面沉积状况最好,表面致密、光滑、几乎无粒状结 晶;占空比1 5 时,表面呈粉晶状。这是因为占空比 越小,脉冲间隔的时间越长,铜离子有充分的时间扩 散至阴极附近从而减弱浓差极化。另外,占空比太 小,相应的峰电流越大,产生的过电位越大,此过电 位大于铜结晶的过电位,导致阴极的极化使得铜沉 积表面状况变差。占空比太大,浓差极化不能消除, 因而沉积表面变粗糙。根据试验结果,我们选择的 占空比为1 3 。 由图1 可知,当占空比为1 1 时,沉积层有较多 突起,结晶颗粒大;当占空比为1 2 时,沉积层均匀, 结晶颗粒较小;当占空比为1 3 时,沉积铜颗粒细 小,结合紧密,沉积效果最好。 C o t Ⅻt m 1 2 c t 。。| o f f 1 3 图1 不同占空比阴极铜沉积形貌的S E M 照片 F i g .1 S E Mm i c r o g r a p h so fc a t h o d ec o p p e rd e p o s i t i o nw i t hd i f f e r e n t r a t eo fo na n do f fo fp u l s e 2 .3 脉冲宽度的选择 脉冲宽度是金属离子在阴极上获得电子被还原 为金属而析出的时间,直接关系到铜沉积层的质量, 选择合适的脉宽具有重要的意义。试验中为了研究 脉宽对铜沉积的影响,选择了不同的占空比,不同的 脉冲宽度,观察阴极铜的表面沉积状况,结果见表 1 。 从表1 可以看出,占空比为1 1 时,t 。。 6m s , 阴极铜沉积层表面较好;占空比为1 2 时,t 。。 6 ~8 m s ,阴极铜沉积层表面较好;占空比为1 3 时,t 。。 4 ~6m S 阴极铜沉积层表面好。 2 .4 电流密度和温度对铜结晶晶面取向的影响 晶体外观的研究能揭示出晶体的许多重要特 征。晶体生长时,晶面指数大的优先得到发展。最后 万方数据 1 2 有色金属 冶炼部分 2 0 0 6 年5 期 形成以低指数面为界的结晶体【8J 。金属结晶的晶 面取向是金属微观结构的一个重要特征,它受温度、 电流密度、电解液组成、添加剂浓度等多种因素的影 响,试验在其他条件不变的情况下分别改变电流密 度和温度,对不同电流密度和温度下的阴极铜沉积 表面用X R D 进行了测试,结果见图2 和图3 。图2 表明电流密度为3 0 0A /m 2 的铜结晶的晶面择优取 向为 1 1 1 和 2 2 0 ,电流密度增至7 0 0A /m 2 时铜 结晶的晶面择优取向为 2 2 0 ,可见电流密度增大对 1 1 1 晶面生长不利。图3 表明3 0 ℃和6 0 ℃时,铜 沉积晶面择优取向均为 2 2 0 ,但是3 0 ℃时 2 2 0 晶 面织构系数【6J 为4 3 .5 %,6 0 ℃时 2 2 0 晶面织构系 数为6 9 .4 %,由此可知温度升高有利于 2 2 0 晶面 的生长,对其他晶面有一定的控制作用。 ∽ a _ U 纶 U 3结论 表1 脉冲宽度对阴极铜沉积的影响 T a b l e1T h ee f f e c t o ft h ew i d t ho fp u l s eo nt h e c a t h o d ec o p p e rd e p o s i t i o n 壁 U 2 0 / 。 2 0 1 。 图2 不同电流密度下阴极铜沉积的X R D 图 F i g2 X - r a yd i f f r a c t i o ns p e c t r o g r a mo fc a t h o d ec o p p e rd e p o s i t i o n w i t hd i f f e r e n tc u r r e n td e n s i t y 罂 U 2 0 I 。 2 0 , 。 图3 不同温度下阴极铜沉积的X R D 图 F i g3X - r a yd i f f r a c t i o ns p e c t r o g r a mo fc a t h o d ec o p p e rd e p o s i t i o n u n d e rd i f f e r e n tt e m p e r a t u r e 脉冲电解法制备纯铜实现了高电流密度下铜的 电解精炼的优点,它有利于提高电解铜的质量和生 产能力,对改进传统直流电解铜工业的生产工艺条 件具有实际的意义。电流密度6 5 0A /m 2 ,t 。。 6 m s , 占空比为1 3 ,在此条件下,可以制得合格的电解铜。 下转第2 4 页 万方数据 2 4 有色金属 冶炼部分 2 0 0 6 年5 期 线性关系,方程为 △G T o 一0 .0 1 4 3 T 一1 0 .2 0 5 反应的△G 吾 N a F 2 M g F 2 。 用回归正交设计试验方法测定了M g O 在M g . C 1 2 一N a C l 一K C l 一N d C l s 体系熔盐中的溶解度,得 出N d C l 3 的含量对M g O 的溶解度有显著影响;还进 一步证明M g O 在N d C l 3 一N a C l 一K C l 一M g C l 2 体系 中的溶解速率只与N d C l 3 浓度有关,其在7 8 0 ℃溶 解度满足M g O % 2 1 .4 6 W 3 0 .1 9 6 4 。 参考文献 [ 1 ] 吴秀铭中国镁工业的现状与展望[ J ] .有色金属加工, 2 0 0 2 2 2 3 25 . [ 2 ] 王延滨,张日强.镁电解过程杂质的影响[ J ] .轻金属, 1 9 9 0 1 1 3 7 4 0 . [ 3 ] 王延滨,张日强.镁电解过程的研究[ J ] .轻金属,1 9 9 2 1 4 3 4 5 . [ 4 ] 邸柏林.水分对镁电解过程的影响[ J ] .轻金属,1 9 8 7 1 1 3 4 3 5 . [ 5 ] 李树林.对镁电解过程中电解质沸腾的探讨[ J ] .轻金 属,1 9 9 7 2 3 2 4 1 . [ 6 ] 杨宝钢.M g O 在氯化镁电解过程中的电泳行为[ J ] .轻金 属,2 0 0 0 1 0 4 3 4 5 . [ 7 ] M a r t i nRL ,W e s tJB .氧化镁在熔盐中的溶解度[ J ] .张 永健译,J .I n o r g .a n dN e u c l .C h e m ,1 9 6 2 ,2 4 1 0 5 一 1 1 1 . [ 8 ] H e i d iM e d i a a s .L i g h tm e t a l s1 9 9 6 [ M ] .A n a h e i m M i n e r a l s M e t a l sa n dM a t e r i a l sS o c i e t y ,1 9 9 6 . [ 93R .A .s h a r n a .E l e c t r o w i r m i n gm a g n e s i u mf r o mi t so x i d ei na m e l tc o n t a i n i n gn e o d y m i u me h l o r i d e [ J ] .J o u r n a lo fA p p l i e d E l e c t r o c h e m i s t r y ,1 9 9 7 ,2 7 4 4 0 4 4 1 3 . [ 1 0 ] 周传华,马淑兰,李国勋.氧化铝的溶解度与溶解速度 [ J ] .有色金属,1 9 9 8 ,5 0 2 8 2 8 4 . [ 1 1 ] 徐日瑶,镁冶金学[ M ] .北京冶金工业出版社,1 9 8 1 1 2 6 1 2 9 . [ 1 2 ] C a t h r oKJ ,D e u t s c h e rRL ,S h a r n aRA .E l e c t r o w i n n i n g m a g n e s i u mf r o mi t so x i d ei nac o n t a i n i n gn e o d y m i u mo h i o r i d e [ J ] .J o u r n a lo fA p p l i e de l e c t r o c h e m i s t r y ,1 9 9 9 ,2 7 4 0 4 4 0 9 . 上接第1 2 页 参考文献 [ 1 ] 陈延禧.解工程[ M ] .天津天津科学技术出版社, 1 9 9 3 3 5 0 3 5 8 . [ 2 ] E n e h e vI ,M i k h a i l o vN .P o s s i b i l i t yf o ri m p r o v e m e n to ft h e c o p p e re l e c t r o p l a t i n gp r o c e s su s i n gu l t r a s o u n de n e r g y [ J ] . K h i m .I n d .,1 9 7 5 ,4 7 2 5 4 . 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